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  • GMSD2000藥物晶種濕法研磨分散機(jī)
    藥物晶種濕法研磨分散機(jī)

    藥物晶種濕法研磨分散機(jī),目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達(dá)到5-10UM ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無法達(dá)到要求的細(xì)度,結(jié)合多家客戶案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機(jī)進(jìn)行晶種研磨細(xì)化處理,轉(zhuǎn)速18000rpm,膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,粒徑可達(dá)D90≤10μm。

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  • GMD2000氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)
    氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)

    SGN氮化硼超細(xì)研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

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  • GRS2000/4濕法涂覆隔膜漿料分散機(jī)價(jià)格
    濕法涂覆隔膜漿料分散機(jī)價(jià)格

    濕法涂覆隔膜漿料分散機(jī)價(jià)格是由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散乳化,經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機(jī)的循環(huán)往復(fù)

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  • GRS2000/4彩色顯影劑超高速分散機(jī)
    彩色顯影劑超高速分散機(jī)

    彩色顯影劑超高速分散機(jī)是電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化均質(zhì)分散的效果。

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  • GRS2000/4濕法涂覆隔膜漿料分散機(jī)
    濕法涂覆隔膜漿料分散機(jī)

    濕法涂覆隔膜漿料分散機(jī)工作原理是由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散乳化,經(jīng)過高頻管線式高剪切分散均質(zhì)乳化機(jī)的循環(huán)往復(fù)

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