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藥物晶種濕法研磨分散機(jī)

簡(jiǎn)要描述:

藥物晶種濕法研磨分散機(jī),目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達(dá)到5-10UM ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無(wú)法達(dá)到要求的細(xì)度,結(jié)合多家客戶案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機(jī)進(jìn)行晶種研磨細(xì)化處理,轉(zhuǎn)速18000rpm,膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,粒徑可達(dá)D90≤10μm。

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藥物晶種濕法研磨分散機(jī)

一、產(chǎn)品名稱:藥物晶種濕法研磨分散機(jī),藥物晶種研磨分散機(jī),藥物晶種濕法分散機(jī),藥物晶種濕法研磨機(jī)

二、藥物晶種簡(jiǎn)介

晶種是在結(jié)晶法中可以形成晶核從而加快或促進(jìn)與之晶型或立體構(gòu)型相同的對(duì)映異構(gòu)體結(jié)晶的生長(zhǎng)的添加物。加晶種進(jìn)行結(jié)晶是控制結(jié)晶過(guò)程、提高結(jié)晶速率、保證產(chǎn)品質(zhì)量的重要方法之一。

三、晶種的意義

晶種用以提供晶體生長(zhǎng)的位點(diǎn),以便從均勻的、僅存在一相的溶液中越過(guò)一個(gè)能壘形成晶核,加入的晶種加速了目標(biāo)晶型的生長(zhǎng)速率,有助于得到目標(biāo)品型。工業(yè)制品中,為了得到粒度大且均勻的晶體產(chǎn)品,都要盡可能避免初級(jí)成核,控制二次成核,加入適量的晶種作為晶體生長(zhǎng)的核心通常是必須的,晶種的制備因此也成為制備晶體的一個(gè)重要環(huán)節(jié)。

晶種的重要性在于所用的晶種是否需要特別工藝獲取,如果需要,則需要說(shuō)明晶種的獲取途徑,如果晶種的性質(zhì)有特別要求,需說(shuō)明晶種的特性及檢測(cè)方法。另外,晶種與晶型的穩(wěn)定性也存在一定的關(guān)系。例如,也存在某一晶型在別的晶型晶體的表面生長(zhǎng)。穩(wěn)定晶型會(huì)在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型表面成核、生長(zhǎng),直至*轉(zhuǎn)晶,這是由于兩種型的某一晶面的結(jié)構(gòu)相似,溶質(zhì)分子可以在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型晶面上直接堆積、排列成穩(wěn)定晶型。

四、藥物晶種的粒徑要求

目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達(dá)到5-10UM  ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無(wú)法達(dá)到要求的細(xì)度,結(jié)合多家客戶案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機(jī)進(jìn)行晶種研磨細(xì)化處理,轉(zhuǎn)速18000rpm,膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,粒徑可達(dá)D90≤10μm。

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五、SGN濕法研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

SGN濕法研磨分散設(shè)備采用德國(guó)的高速研磨分散技術(shù),通過(guò)超高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)18000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使晶種在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。

GMD2000系列研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到更低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

六、藥物晶種研磨分散機(jī)選型表:

 

研磨分散機(jī)流量*輸出線速度功率入口/出口連接
類(lèi)型l/hrpmm/skW 
GMSD 2000/430018,000504DN25/DN15
GMSD 2000/5100013,0005011DN40/DN32
GMSD 2000/1030009,2005022DN80/DN65
GMSD 2000/2080002,8505037DN80/DN65
GMSD 2000/30200001,4205055DN150/DN125
GMSD2000/50600001,10050110DN200/DN150

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