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  • GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機
    光刻膠去除劑高剪切分散機

    光刻膠去除劑高剪切分散機新的結構設計,將膠體磨和分散機一體化的設備,膠體磨磨頭+分散盤定轉子,先研磨后分散效果更佳。

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  • GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機
    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機

    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、均質和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000水性防腐劑高速分散機
    水性防腐劑高速分散機

    水性防腐劑高速分散機能在真空或壓力環(huán)境下,實現(xiàn)物料的分散、乳化、均質、混合等工藝過程。

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  • GMD2000石墨烯潤滑油高剪切分散機
    石墨烯潤滑油高剪切分散機

    石墨烯潤滑油高剪切分散機具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • GMD2000橡膠抗氧劑高速乳化分散機
    橡膠抗氧劑高速乳化分散機

    橡膠抗氧劑高速乳化分散機機配合橡膠抗氧劑的生產(chǎn):將原始粒徑15-30nm的抗氧劑顆粒倒入一定配比的去離子水中,加入表面活性劑和組分A,攪拌10min至物料全部均勻無大的團聚顆粒,將配好的液體倒入分散機中,打4-6遍,即可得到D50粒徑約300nm的均勻水性抗氧劑。

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  • GMD2000蛋白質高速分散機
    蛋白質高速分散機

    蛋白質高速分散機可在實驗室高速馬達,可選配不銹鋼帶夾套工作腔或玻璃工作腔。*的定轉子結構,產(chǎn)生*的剪切力,迅速減小液滴尺寸,處理物料更精細、更均勻。

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  • GMD2000納米氧化鎂均質分散機
    納米氧化鎂均質分散機

    納米氧化鎂均質分散機可在實驗室模擬在線工況進行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質無分散死角等特點。

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  • GMD2000石墨烯涂層漿料高剪切分散機
    石墨烯涂層漿料高剪切分散機

    石墨烯涂層漿料高剪切分散機的線速度達21M/S,由3級可調間隙的錐形定子和4級高速旋轉的錐形轉子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無級調速,定轉子每一級上的凹槽一級比一級精細,深度,方向的不同增加了流體的揣流。

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